高選択的不斉水素化触媒 (XylSKEWPHOS触媒)
ジホスフィンとジアミンを配位子とする不斉ルテニウム触媒は、ケトン類の不斉水素化において極めて高い触媒活性、エナンチオ選択性を示します。
関東化学では、ジホスフィン配位子の構造について検討を加え、より高いエナンチオ選択性を与えるXlySKEWPHOSを配位子とする高選択的不斉水素化触媒(XlySKEWPHOS触媒)を販売しています。
製品一覧
製品番号 | 製品名 | 保存温度 | 規格 | 包装 | 価格 |
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10537-68 | ジブロモ[(R,R)-XylSKEWPHOS][(S)-DAIPEN]ルテニウム(II) Dibromo[(R,R)-XylSKEWPHOS][(S)-DAIPEN]ruthenium(II) |
冷蔵 | 不斉合成用 | 100mg | ¥16,000 |
10538-68 | ジブロモ[(S,S)-XylSKEWPHOS][(R)-DAIPEN]ルテニウム(II) Dibromo[(S,S)-XylSKEWPHOS][(R)-DAIPEN]ruthenium(II) |
冷蔵 | 不斉合成用 | 100mg | ¥16,000 |
10535-68 | ジブロモ[(R,R)-XylSKEWPHOS][(R,R)-DPEN]ルテニウム(II) Dibromo[(R,R)-XylSKEWPHOS][(R,R)-DPEN]ruthenium(II) |
冷蔵 | 不斉合成用 | 100mg | ¥16,000 |
10536-68 | ジブロモ[(S,S)-XylSKEWPHOS][(S,S)-DPEN]ルテニウム(II) Dibromo[(S,S)-XylSKEWPHOS][(S,S)-DPEN]ruthenium(II) |
冷蔵 | 不斉合成用 | 100mg | ¥16,000 |
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